2023年11月17日消息，據國家知識產權局公告，上海新陽半導體材料股份有限公司取得一項名為“一種酸性清洗液的應用”，公開號CN117070283A，專利申請日期為2023年11月。

專利摘要顯示，本發明公開了一種酸性清洗液的應用。本發明的酸性清洗液用于清洗刻蝕灰化后的半導體芯片；所述的酸性清洗液的原料包括下列質量分數的組分：0.1-4％有機胺、0.1-9％酸、氟化物、緩蝕劑、螯合劑、表面活性劑和水，水補足余量，各組分質量分數之和為100％；所述的表面活性劑為磺酸鹽類陰離子表面活性劑；所述的酸與所述的有機胺的質量比為(1-3):1。本發明的酸性清洗液具有如下的一個或多個優點：具有較好的清洗效果，可以抑制半導體晶圓的損傷，具有較好的BTA清除效果。